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SK 海力士 1cnm DRAM 技术新成果:良品率提升至 80% 以上4 月 9 日

SK 海力士在 1cnm 工艺 DRAM 芯片技术上取得突破,良品率从 60% 提升至 80%-90%,性能显著提升:运行速率达 8Gbps,能效提高 9% 以上,生产效率提升超 30%。这一进展有望助力其在 AI 浪潮中挑战三星的市场地位,并为数据中心节省 30% 以上电力成本,重塑存储市场格局。

链接SK 海力士 1cnm DRAM 技术大飞跃,良品率超 80%,AI 时代存储市场迎新霸主?
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链接SK 海力士 1cnm DRAM 技术新成果:良品率提升至 80% 以上
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