台积电 2nm 芯片技术外泄案中，三名涉案人员被检方起诉，分别被要求判处 14 年、9 年和 7 年徒刑。主嫌陈某曾任台积电工程师，离职后加入日本 TEL 公司，利用旧同事关系获取台积电 2 纳米蚀刻站机密文件。涉案人员还包括吴某、葛某和廖某，其中廖某未被起诉。台积电强调对泄密行为零容忍，将依法追究责任。