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英特尔全力押注 EUV 工艺 争取首发下代高 NA 光刻机
2021 年 7 月 27 日

Intel 这几年在工艺进度上落后跟 10nm、7nm 工艺多次跳票有关,而新工艺延期也跟 Intel 此前不考虑 EUV 工艺有关,所以 10nm 工艺才上了四重曝光,导致良率上不去,迟迟无法量产 … Intel 之前认为 EUV 工艺不够成熟,现在 EUV 光刻工艺已经量产几年了,Intel 也开始跟进了,原先的 7nm 工艺、现在的 Intel 4 工艺会是全面使用 EUV 光刻机的开始,首款产品是 Meteor Lake 流星湖,2023 年发布 … 之后的 Intel 3 工艺、Intel 20A 工艺上也会持续利用 EUV 工艺,进一步提升性能及能效。

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