哈工大科研团队开发出在二维铁电材料上利用飞秒激光刻蚀实现超分辨纳米沟槽阵列结构的新方法，突破纳米结构激光制备分辨率瓶颈，为功能架构构建、电子器件集成及纳米光子学发展提供重要支持。