国内首台自主研发的商用电子束光刻机「羲之」在杭州问世，技术参数达到国际主流水平，标志着我国在量子芯片制造领域取得重要进展。该设备可在纳米尺度上精确雕刻复杂结构，适用于高端芯片原型开发和掩模版制造，填补了国内高端光刻设备领域的空白。