2021 年 11 月 24 日
韩国半导体产业协会成立 30 周年庆典期间,SK 海力士 CEO 李锡熙谈到无锡海力士半导体工厂 … EUV 光刻技术已经应用于韩国本土 DRAM 生产线,中国工厂还有充足的时间进行调解和沟通 … SK 海力士将生产基于 EUV 光刻机的 10nmDRAM 芯片,这是第四代内存。
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韩国半导体产业协会成立 30 周年庆典期间,SK 海力士 CEO 李锡熙谈到无锡海力士半导体工厂 … EUV 光刻技术已经应用于韩国本土 DRAM 生产线,中国工厂还有充足的时间进行调解和沟通 … SK 海力士将生产基于 EUV 光刻机的 10nmDRAM 芯片,这是第四代内存。